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等離子鍍膜設(shè)備是一種小型射頻（RF）等離子磁控濺射鍍膜儀器系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括所有必需的配件，如300W（13.5mhz）射頻電源、2"磁控濺射頭、石英真空室、真空泵和溫度控制器。它是制作一些金屬和非金屬的又好又便宜的實驗幫手。在鍍膜領(lǐng)域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的重要因素。因此，在評價薄膜樣品的性能時，需要對薄膜樣品在不同厚度下的性能進行測試。等離子鍍膜設(shè)備集成了真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)，可在高真空蒸發(fā)室中完成薄膜蒸發(fā)，并將蒸發(fā)后的樣品在手套內(nèi)的高純惰性氣體氣氛中儲存...

輥壓機由機架、兩個輥系、傳動裝置、扭矩支承、輥罩、進料裝置、液壓(加壓)系統(tǒng)、主軸承潤滑系統(tǒng)、干油潤滑系統(tǒng)、電氣系統(tǒng)、拆輥裝置等部份組成。在中控操作的過程中，輥壓機出現(xiàn)波動大致可概括為三方面原因：一是物料因素的影響；二是輥壓機電氣/機械方面故障所致；三是工藝流程上的影響因素。1物料因素的影響1.1通過輥壓機的物料細粉量過多因細粉的密實度低，其間夾雜著氣體。當細粉量過多物料經(jīng)過高壓力區(qū)被擠壓后密實度會增高，但細粉中夾雜的氣體會聚集成氣泡，在高壓力作用下氣泡被擠壓破裂，從而導(dǎo)致輥...

1100℃微型箱式爐采用電阻絲作為加熱元件，K型熱電偶和30段可編程溫度控制器。下拉式爐門結(jié)構(gòu)，方便客戶放樣；爐體采用氧化鋁微晶纖維。溫度可達1100℃，可連續(xù)工作1000℃，控溫精度±1℃；能耗500W還配備通風(fēng)接口，可在氧氣或惰性氣體下使用。該爐具有體積小、重量輕、溫場平衡、升降溫速度快、節(jié)能等優(yōu)點，此外，該設(shè)備還可置于手套箱內(nèi)，在真空和可控氣氛下進行樣品燃燒，是大專院校、科研院所及工礦企業(yè)進行高溫?zé)Y(jié)、金屬退火及質(zhì)量檢測的理想產(chǎn)品。電阻絲為發(fā)熱體，采用雙層...

箱式爐主要供合金鋼制品、各種金屬機件正火、淬火、退火等熱處理之用，或金剛石等切割刀片進行高溫?zé)Y(jié)用途。廣泛用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、新材料開發(fā)、特種材料、建材等領(lǐng)域的生產(chǎn)及實驗。熱電偶將爐溫轉(zhuǎn)變成電壓信號后，加在微電腦溫度控制調(diào)節(jié)儀上。調(diào)節(jié)儀將此信號與程控設(shè)定相比較，輸出一個可調(diào)信號。再用可調(diào)信號控制觸發(fā)器，再有觸發(fā)器觸發(fā)調(diào)壓器，達到調(diào)節(jié)電爐電壓和電爐溫度的目的。箱式爐的維護注意事項1.爐子使用或長時間不用后，要在120℃左右烘烤1小時，在300℃左右...

1200℃開啟式管式爐具有基礎(chǔ)溫度低、沉積速度快、成膜質(zhì)量好、針孔少、不易開裂等優(yōu)點；在此過程中，由于等離子體中的高速電子撞擊中性反應(yīng)氣體分子，中性反應(yīng)氣體分子會變成碎片或處于活化狀態(tài)，容易發(fā)生反應(yīng)；在射頻的幫助下，含有薄膜原子的氣體在局部形成等離子體，等離子體具有很強的化學(xué)活性，易于反應(yīng)在基板上沉積所需的薄膜；高真空系統(tǒng)由兩級旋片真空泵和分子泵組成，真空度可達0.001pa；數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)由多通道質(zhì)量流量計和流量顯示儀表組成，實現(xiàn)氣體流量的精確測量和控制；每條燃氣管道...

管式爐主要運用于冶金，玻璃，熱處理，鋰電正負極材料，新能源，磨具等行業(yè)，測定材料在一定氣溫條件下的專業(yè)設(shè)備。爐型結(jié)構(gòu)簡單，操作容易，便于控制，能連續(xù)生產(chǎn)。管式爐使用的注意事項注意一電爐操作工應(yīng)具備國家相應(yīng)電氣設(shè)備操作資格，并熟讀隨機儀表說明書等技術(shù)文件!溫度系統(tǒng)操作:用戶開關(guān)板給電爐送電，此時程序表得電，按溫度儀表(如右圖)說明書設(shè)定儀表(如P、I、D參數(shù))，按工藝要求編制加熱程序，打開加熱旋鈕,使加熱功率到達6KW。加熱功率可按下式計算:加熱功率=儀表電壓×儀表電流正常加熱...

就像把石頭扔進平靜的湖水會濺出水一樣，用高速離子轟擊固體表面會使近表面的原子（或分子）從固體表面逃逸。這種現(xiàn)象稱為濺射現(xiàn)象。濺射意味著具有足夠高能量的粒子轟擊固體表面以發(fā)射原子。早期的人們認為，這種現(xiàn)象源于目標的局部加熱。然而，人們發(fā)現(xiàn)濺射和蒸發(fā)有本質(zhì)區(qū)別，人們逐漸認識到濺射是轟擊粒子與靶粒子之間動量傳遞的結(jié)果。小型磁控射頻濺射鍍膜儀磁控濺射利用磁場束縛電子的運動，提高電子的電離率。與傳統(tǒng)濺射相比，具有“低溫”和“高速”兩大特點。磁控射頻濺射鍍膜儀具有小型化、標準化的特點。磁...