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OTF-1200X-5L-R-CVD是一款旋轉(zhuǎn)CVD爐。爐體有3個(gè)加熱區(qū)，可提高溫度均勻性，同時(shí)配有4通道的精密混氣系統(tǒng)。此款管式爐設(shè)計(jì)主要用于電池粉體材料表面包覆或其他粉體材料表面修飾。設(shè)備相關(guān)論文（點(diǎn)擊查看）

OTF-1200X-4-R-II-AF是一款4英寸雙溫區(qū)回轉(zhuǎn)CVD管，安裝有自動(dòng)送料器和收料罐。自動(dòng)可定份額地將粉料送入到爐管中，此過程可在氣氛保護(hù)環(huán)境下進(jìn)行，可實(shí)現(xiàn)用連續(xù)CVD方法對(duì)粉體材料進(jìn)行包覆和修飾。收料罐可在氣氛保護(hù)環(huán)境下對(duì)處理好的粉料進(jìn)行收集。此款管式爐設(shè)計(jì)主要是在鋰離子電池的陰極材料（如LiFePO3, LiMnNiO3）上包覆導(dǎo)電層，同時(shí)也可用CVD方式制備 Si/C 陽極材料。

OTF-1200X-50-II-4CV-PE-MSL是一款雙溫區(qū)的PE-CVD管式爐系統(tǒng)，組成部分為500W的射頻發(fā)生器、滑動(dòng)速度可控的雙溫區(qū)滑軌爐，預(yù)熱爐（作用為使固體原料蒸發(fā)）和德國進(jìn)口的無油泵。此款PE-CVD對(duì)于生長納米線或用CVD,方法來制作各種薄膜是一款新的探索工具。

OTF-1200X-S2-50SL是一款小型的雙爐體滑動(dòng)管式爐，爐管為Φ50×1400mm的石英管，并配有不銹鋼密封法蘭，儀器Z高溫度可以達(dá)到1200℃。兩個(gè)爐體可在滑軌上滑動(dòng)，實(shí)現(xiàn)對(duì)原材料的蒸發(fā)/升華，及薄膜沉積。通過爐體的滑動(dòng)可實(shí)現(xiàn)對(duì)樣品快速加熱，Z大升溫速率為100℃/min.同時(shí)可選擇電動(dòng)滑軌、質(zhì)量流量計(jì)（MFC）控制的供氣系統(tǒng)和等離子射頻電源來搭建TCVD系統(tǒng)。

GSL-1700X-4-HVC是一款CE認(rèn)證的二通道高真空CVD系統(tǒng)，其爐管直徑為4英寸，它是由二路質(zhì)子混氣系統(tǒng)和高真空機(jī)組組成，其Z高工作溫度可達(dá)1600℃，極限真空度可達(dá) to 10^-5 torr?；鞖庀到y(tǒng)可以對(duì)兩種氣體進(jìn)行精確的混氣，然后導(dǎo)入到管式爐內(nèi)部。

OTF-1200X--HVC是由OTF-1200X-單溫區(qū)管式爐，二路質(zhì)子混氣系統(tǒng)和高真空機(jī)組組成。其Z高工作溫度可達(dá)1200℃，極限真空度可達(dá) to 10^-5 torr。混氣系統(tǒng)可以對(duì)兩種氣體進(jìn)行精確的混氣，然后導(dǎo)入到管式爐內(nèi)部。