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輥壓機采用垂直管道進(jìn)料，屬于流動性料床。物料循環(huán)擠壓處理過程中，雙輥邊緣物料不易受限、易產(chǎn)生側(cè)漏。在輥壓機推廣應(yīng)用初期，由于使用斜插板控制入機物料量，料床受限程度較差，進(jìn)料比例調(diào)控不夠靈敏。MSK-MR100DC是一款可通過UL/CSA認(rèn)證的電動輥壓機，此設(shè)備軋輥尺寸為：Φ100mm×100mm，采用的是可變速24VDC電器驅(qū)動，所以可在Ar氣環(huán)境中使用。本軋機特別適合對電池極片進(jìn)行輥軋，常常用于鋰離子電池和鈉離子電池的制備。軋輥參數(shù)：1.兩軋輥采用優(yōu)質(zhì)碳素鋼制作，并...

雙溫區(qū)管式爐可放置在工作臺上，以適合員工的工作高度。工作臺的有效負(fù)載應(yīng)大于200kg。在安裝過程中，插入爐內(nèi)的深度為25mm，并且將N梯度補償線連接到溫度控制儀器。注意：應(yīng)該先安裝石英管，然后再安裝熱電偶。熱電偶不應(yīng)與石英管接觸。電爐和控制柜整體接地，接地線的接地電阻應(yīng)小于4Ω。雙溫區(qū)管式爐采用了新型的高性能，高節(jié)能的電爐，主要用于大學(xué)，研究院所，工礦企業(yè)等的實驗和小批量生產(chǎn)。具有安全可靠，操作簡單，控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，爐溫均勻性高的特點。，多個溫度區(qū)域，可選...

1111MicrosoftInternetExplorer402DocumentNotSpecified7.8磅Normal0涂膜機的配置目的是為了刮膜提供一致的重復(fù)性以及超低膜厚涂布。它以其恒溫、恒壓、恒速和針對薄膜底材提供的真空吸附功能為越來越多的用戶所關(guān)注。作為一個涂膜平臺，涂膜機本身并不控制膜厚，膜厚的控制是由搭配在涂膜機上的線棒或者制備器決定的。也因此，線棒及制備器的精度決定性的影響著涂膜的膜厚預(yù)期。但國內(nèi)涂膜機配套的線棒往往為了突出“性價比”而采用低價涂膜器，則就...

噴涂一直存在于我們的生活中，并已長期用于多種用途，包括噴涂裝飾性和保護性涂料。因此，這是材料科學(xué)家可用于薄膜制備的一種工具。在噴涂中，噴嘴尺寸，噴涂形狀，從噴嘴到基材的距離，噴涂速度以及噴涂過程中基材的加熱是可以控制以實現(xiàn)效果的重要參數(shù)。超聲波霧化模塊使用超聲波噴嘴，可以使噴霧溶液均勻化，有效控制液滴的大?。▏娮祛l率會影響液滴的大?。?，并且可以分配微霧量，從而確保成分和結(jié)構(gòu)的均勻性以及產(chǎn)生的膠片和圖案的準(zhǔn)確性。物料浪費保持在一定水平，設(shè)備操作員的風(fēng)險很小。超聲波霧化模塊的工作...

談到磁控濺射，首先就要說濺射技術(shù)。濺射技術(shù)是指使得具有一定能量的粒子轟擊材料表面，使得固體材料表面的原子或分子分離，飛濺落于另一物體表面形成鍍膜的技術(shù)。被粒子轟擊的材料稱為靶材，而被鍍膜的固體材料稱為基片。首先由極板發(fā)射出粒子，這些粒子一般是電子，接著使它們在外電場加速下與惰性氣體分子一般是氬氣分子(即Ar原子)碰撞，使得其電離成Ar離子和二次電子。Ar離子會受到電場的作用，以高速轟擊靶材，使靶材表面原子或分子飛濺出去，落于基片表面沉積下來形成薄膜。磁控濺射就是在外加電場的兩...

材料對于推動生產(chǎn)力發(fā)展和社會進(jìn)步起著舉足輕重的作用。關(guān)鍵材料的研發(fā)周期更是直接決定了相關(guān)領(lǐng)域的發(fā)展進(jìn)程。隨著科技發(fā)展，對材料的功能和性能要求越來越高。傳統(tǒng)材料研發(fā)手段也越來越難以滿足現(xiàn)代社會生產(chǎn)發(fā)展的需求。以高溫超導(dǎo)材料為例，超導(dǎo)轉(zhuǎn)變溫度高的材料往往組分結(jié)構(gòu)十分復(fù)雜。隨著組分增多，獲得準(zhǔn)確的組分依賴的相圖的工作量呈幾何級數(shù)增長。另外，采用傳統(tǒng)的實驗手段很難準(zhǔn)確合成并重復(fù)獲得到某個特定的組分，而這往往是研究量子相變，破解高溫超導(dǎo)機理的關(guān)鍵。材料基因組技術(shù)的出現(xiàn)為快速構(gòu)建準(zhǔn)確的材...

小型蒸鍍儀是一種在真空條件下加熱蒸發(fā)容器中待蒸發(fā)材料的方法，以使原子或分子蒸發(fā)并從表面逸出以形成蒸氣流，進(jìn)入基材或基材表面，然后凝結(jié)成固體膜。小型蒸鍍儀包括以下基本過程：（1）加熱蒸發(fā)過程：包括從冷凝相變?yōu)闅庀嗟倪^程，并且每種蒸發(fā)物質(zhì)在不同溫度下具有不同的飽和蒸氣壓。（2）氣態(tài)原子或分子在蒸發(fā)源和基質(zhì)之間的傳輸，即原子或分子在周圍大氣中的飛行過程。（3）蒸發(fā)的原子或分子在基板表面上的沉積過程。即，蒸發(fā)，冷凝，成核，成核生長，形成連續(xù)的膜。由于基材的溫度遠(yuǎn)低于蒸發(fā)源的溫度，因此...