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退火爐是通過(guò)熱處理可以改變鋼的組織結(jié)構(gòu)，從而改善鋼的性能。熱處理可以顯著提高鋼的機(jī)械性能，延長(zhǎng)機(jī)器零件的使用壽命。退火爐是冷軋連續(xù)熱鍍鋅生產(chǎn)線中的重要設(shè)備，爐內(nèi)氣氛直接影響產(chǎn)品的表面質(zhì)量。爐內(nèi)氣氛的好壞在很大程度上取決于爐子本身的氣密性。連續(xù)退火爐氣密性檢查的難點(diǎn)主要在于爐體面積大，管道復(fù)雜，可能出現(xiàn)泄漏的部位繁多。對(duì)氣密性的檢查要常規(guī)化、制度化。1、確定氣密性檢查的重點(diǎn)部位這些重點(diǎn)部位一般包括：1)檢修時(shí)更換設(shè)備的部位。檢修時(shí)動(dòng)過(guò)的爐體和管道部分，都要作為檢查的關(guān)鍵部位。2...

表面工程是指對(duì)材料表面進(jìn)行預(yù)處理后，改變金屬表面或非金屬表面的形貌、化學(xué)成分、微觀結(jié)構(gòu)和結(jié)構(gòu)，獲得表面特征的表面涂層、表面改性或各種表面工程固體復(fù)合處理技術(shù)。表面工程技術(shù)分為三大類(lèi)：表面合金化、表面涂層和薄膜涂層技術(shù)和表面處理。表面合金化：包括噴焊和堆焊、離子注入、轉(zhuǎn)化膜技術(shù)、擴(kuò)散滲透、激光熔鍍、熱滲透鍍等表面鍍膜和膜鍍技術(shù)：包括電化學(xué)沉積、化學(xué)沉積、氣相沉積、熱噴涂、電沉積電鍍、化學(xué)轉(zhuǎn)化處理、刷鍍、化學(xué)鍍、氣相沉積、涂層和堆焊、金屬染色、熱浸鍍等表面處理：包括激光電子束熱處...

高真空蒸發(fā)鍍膜儀可提供大100A鍍膜電流，大蒸發(fā)溫度高達(dá)1800℃，可滿足各種普通金屬和部分非金屬的蒸發(fā)。真空室采用高純石英，易于觀察鍍膜過(guò)程，易清洗；結(jié)合分子泵組，可達(dá)到5x10-4pa的極限真空度，有效保證氣相沉積膜的純度和附著力。全自動(dòng)程序控制，彩色觸摸屏界面，操作簡(jiǎn)單，可鍍金（AU）、鉑（PT）等非氧化性貴金屬，也可鍍銥（IR）、鉻（CR）、鋁(AL)等細(xì)小顆粒易氧化膜材料。特別適用于場(chǎng)發(fā)射電鏡、透射電鏡樣品制備和非晶碳包覆膜/TEM網(wǎng)格支撐膜的制作，也可為薄膜應(yīng)用等...

金剛石線可以分為電鍍金剛石線和樹(shù)脂金剛石線。金剛石切割線是通過(guò)一定的方法，將金剛石鍍覆在鋼線上制成，通過(guò)金剛石切割機(jī)，金剛石切割線可以與物件間形成相對(duì)的磨削運(yùn)動(dòng)，從而實(shí)現(xiàn)切割的目的。金剛石線切割機(jī)采用金剛石線單向循環(huán)或往復(fù)循環(huán)運(yùn)動(dòng)的方式，使金剛石線與被切割物件間形成相對(duì)的磨削運(yùn)動(dòng)，從而實(shí)現(xiàn)切割的目的。金剛石切割線相比傳統(tǒng)工藝有三大優(yōu)勢(shì)：1)金剛石線切割漏損少，壽命長(zhǎng)，切割速度快，切割效率高，提升產(chǎn)能；2)品質(zhì)受控，單片成本低，金剛石線切割造成的損傷層小于砂漿線切割，有利于切割...

雙溫區(qū)管式爐可裝載四個(gè)不同材質(zhì)的蒸發(fā)坩堝舟，可同時(shí)將兩個(gè)蒸發(fā)坩堝源送入管式爐內(nèi)進(jìn)行CO蒸發(fā)或反應(yīng)蒸發(fā)。可實(shí)現(xiàn)快速加熱，通過(guò)在每個(gè)溫區(qū)設(shè)置不同的加熱溫度，形成不同的溫度梯度，實(shí)現(xiàn)蒸發(fā)沉積。雙通道進(jìn)料系統(tǒng)可在程序控制下推拉兩個(gè)裝有不同蒸發(fā)材料的坩堝，實(shí)現(xiàn)共蒸發(fā)或反應(yīng)蒸發(fā)，特別適用于多層二維晶體材料的制備。雙溫區(qū)管式爐內(nèi)部有兩個(gè)溫區(qū)，可在300℃以?xún)?nèi)產(chǎn)生不同的溫度梯度；采用PID控制。溫控儀可設(shè)置30段升溫、降溫程序，每個(gè)溫區(qū)可單獨(dú)控制；采用KF快速法蘭密封，只需一個(gè)卡箍即可完成法...

磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積（PVD）方法，具有沉積溫度低、沉積速度快、沉積薄膜均勻性好、成分接近靶材成分等優(yōu)點(diǎn)。傳統(tǒng)濺射技術(shù)的工作原理是：在高真空條件下，入射離子（ar+）在電場(chǎng)作用下轟擊靶材，使靶材表面的中性原子或分子獲得足夠的動(dòng)能，與靶材表面分離，沉積在基板表面形成薄膜。但是，電子會(huì)受到電場(chǎng)和磁場(chǎng)的影響而漂移，導(dǎo)致濺射效率低。短的電子轟擊路徑也會(huì)導(dǎo)致襯底溫度升高。為了提高濺射效率，在靶材下方安裝了強(qiáng)磁體，中心和圓周分別有N極和S極。由于洛倫茲力的作用，電子被束縛在靶...

多功能試樣表面處理機(jī)是一種用于掃描電鏡和電子探針的樣品制備設(shè)備，可用于真空碳蒸鍍、真空鍍膜和離子濺射，在高純氬氣保護(hù)下也可用于各種離子處理。本設(shè)備處理后的樣品既可用于樣品的外觀觀察，也可用于成分分析，尤其是成分的定量分析。本儀器配備機(jī)械泵和分子泵，分子泵系統(tǒng)特別適用于對(duì)真空度要求高、真空環(huán)境好的用戶(hù)。多功能試樣表面處理機(jī)將硅片放入真空反應(yīng)系統(tǒng)，通入少量氧氣，加1500V高壓，高頻信號(hào)發(fā)生器產(chǎn)生高頻信號(hào)，從而形成強(qiáng)電磁場(chǎng)石英管中，氧氣被電離，形成由氧離子、活性氧原子、氧分子和電...