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氫氣爐按溫度分為高溫氫氣爐和中溫氫氣爐，按用途分為單站氫氣爐和雙站氫氣爐，根據(jù)結構分為立式氫氣爐、臥式氫氣爐和底部進料氫氣爐。氫氣爐用于粉末冶金燒結、陶瓷金屬化工藝、磷還原、燒結等，中溫氫氣爐用于焊接、退火、脫氣、脫脂、凈化等工藝。用戶可以根據(jù)工藝要求提出氫氣爐的最高溫度指標。高溫氫氣爐是利用鎢和膽囊的加熱原理，在保護氣氛下燒結硬質合金刀頭和各種金屬粉末壓塊的成套設備。它設計用于硬質合金、鏑金屬和陶瓷材料的工業(yè)生產(chǎn)。鎢燒結爐應用于科研單位，利用加熱元件的加熱原理，在真空充氫的...

高溫氣氛箱式爐是一種常見的高溫實驗裝置，用于進行高溫處理和熱處理實驗，常用于材料研究、化學合成、陶瓷制備等領域。箱式爐是一種能夠達到高溫的熱處理裝置，通常由爐體、加熱元件、溫度控制系統(tǒng)、氣氛控制系統(tǒng)等組成。爐體通常由不銹鋼或陶瓷等高溫材料制成，能夠承受高溫和化學腐蝕。加熱元件通常采用電阻絲、石墨等材料，能夠提供高溫的加熱能力。溫度控制系統(tǒng)通常由溫度控制器、熱電偶等組成，能夠精確地控制爐體溫度。氣氛控制系統(tǒng)通常由氣體流量控制器、氣體流量計等組成，能夠控制爐內氣氛的成分和流量。高...

雙溫區(qū)管式爐是一種高溫加熱設備，主要應用于半導體材料的生產(chǎn)和研究等領域。采用石英管作為反應室，可分為上下兩個溫區(qū)，分別控制溫度。通常使用電阻絲作為加熱元件，可以通過PID控制系統(tǒng)精確地控制溫度。利用電阻絲作為加熱元件，通電后產(chǎn)生的熱量傳導到反應室中，使反應室的溫度升高。管式爐通過上下兩個溫區(qū)的控制，可以實現(xiàn)不同溫度的控制，以適應不同的反應需求。1、高溫度控制精度：采用PID控制系統(tǒng)，可以實現(xiàn)高精度的溫度控制，控制精度可以達到0.1℃。2、雙溫區(qū)控制：可以實現(xiàn)上下兩個溫區(qū)的分別...

高真空蒸發(fā)鍍膜儀特別適用于蒸發(fā)對氧敏感的金屬膜（如Ti、Al、Au等）以及各種氧化物材料。如果改變一些配置，還可以實現(xiàn)有機材料的蒸發(fā)涂層，這可以滿足發(fā)光器件和有機太陽能電池的研究要求，是一種涂層效果理想的實驗設備。1、一體化設計，結構緊湊，節(jié)省空間。2、微粒涂層-適用于高級高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡（FE-SEM）樣品制備。3、渦輪分子泵高真空系統(tǒng)-高真空碳蒸發(fā)，適用于SEM和TEM碳涂層應用。4、全自動觸摸屏控制-快速數(shù)據(jù)輸入，操作簡單。觸摸屏被用作簡單的操作核心，即使是...

極片的壓實密度對電池的電化學性能有重要影響。在一定范圍內，隨著壓實密度增加，活性物質粒子間距減小，接觸面積增大，利于離子導電的通路和橋梁增多，在宏觀方面表現(xiàn)為電池內部電阻降低。但若極片的壓實密度太大，活性物質粒子之間接觸程度太緊密，電子導電率增加。但鋰離子通道減少或者堵塞，不利于容量的發(fā)揮，進行放電時，極化增加，電壓降低，容量下降。壓實密度太小時，粒子間距大，鋰離子移動通道通暢，電解液吸液能力較強，利于電池內部的鋰離子移動，但由于粒子間接觸程度不夠緊密，不利于電子進行導電，在...

小型蒸鍍儀體積小，功能齊全，但它配備了電壓和電流反饋、樣品臺旋轉、樣品高度調節(jié)和電動擋板功能。通過定期調節(jié)預熱功率和蒸發(fā)功率，大多數(shù)金屬可以均勻地蒸發(fā)和沉積。真空室由透明石英玻璃制成，以減少樣品污染。可以旋轉樣品臺以獲得更均勻的膜，并且可以制備各種金屬膜和有機膜。小型蒸鍍儀工作包括以下基本工藝：1、加熱蒸發(fā)過程：包括從冷凝相變成氣相的過程。每種蒸發(fā)物質在不同溫度下具有不同的飽和蒸汽壓。2、氣態(tài)原子或分子在蒸發(fā)源和基底之間的傳輸是原子或分子于環(huán)境大氣中的飛行過程。3、蒸發(fā)原子或...

真空技術與熱處理相結合的綜合技術，是指熱處理過程的全部和部分都在真空下進行。小型真空管式爐熱效率高，能實現(xiàn)快速升溫和降溫，能實現(xiàn)不氧化、不脫碳、不滲碳，能去除工件表面的磷屑，并具有脫脂和脫氣功能，從而達到表面光潔度凈化的效果。將實驗氣體放入爐管內，爐管兩端用閥門密封。氣體在加熱過程中可以發(fā)生分解、結合等化學反應。在充氣過程中，閥門控制流量計、質量流量計、壓力表等。爐體材料全部采用高純度氧化鋁/進口摩根纖維，節(jié)能效果是老式電爐的80%以上。微電腦控制可編程，全自動升溫，控溫精度...