近年來，市場對質(zhì)量的要求越來越嚴格，國際上對環(huán)保的要求也越來越嚴格，我國許多高密度清潔行業(yè)面臨嚴峻挑戰(zhàn)?，F(xiàn)在市面上出現(xiàn)的超聲波清洗機都無法達到改裝的效果，它們只能清潔表面上的一些可見物體。由于制造過程中的各種缺陷，衍生出等離子清洗機等高科技產(chǎn)品。多功能試樣表面處理機可以實現(xiàn)表面改性、清洗和產(chǎn)品性能提升，大大降低了產(chǎn)品在制造過程中造成的不良率，從而提高了產(chǎn)品質(zhì)量，降低了成本等等。目前，等離子清洗機給很多工業(yè)生產(chǎn)企業(yè)帶來了很大的便利。

　　多功能試樣表面處理機將硅片置于真空反應系統(tǒng)中，通入少量氧氣，加1500V高壓，高頻信號發(fā)生器產(chǎn)生高頻信號，使石英管內(nèi)形成強電磁場，氧被電離，形成氧離子、活化氧原子、氧分子和電子混合的等離子輝光柱?；钚匝酰ɑ钚栽友酰┛梢詫⒕埘啺繁∧ぱ杆傺趸蓳]發(fā)性氣體，通過機械泵將其抽走，從而去除硅片上的聚酰亞胺薄膜。等離子脫膠的優(yōu)點是脫膠操作簡單、脫膠效率高、表面干凈光滑、無劃痕、成本低、環(huán)保。

　　多功能試樣表面處理機一般采用電容耦合等離子體平行板反應器。在平行電極反應器中，反應離子蝕刻腔采用陰極面積小陽極面積大的非對稱設計，被蝕刻的物體放置在面積較小的電極上。在射頻電源產(chǎn)生的熱運動作用下，帶負電的自由電子質(zhì)量小，運動速度快，迅速到達陰極；而正離子由于質(zhì)量大、速度慢，不能同時到達陰極，從而使陰極附近形成帶負電荷的鞘層。在護套的加速作用下，正離子垂直轟擊硅片表面，加速表面的化學反應和反應產(chǎn)物的分離，產(chǎn)生很高的蝕刻速率。離子轟擊還可以實現(xiàn)各向異性蝕刻，實現(xiàn)與等離子脫脂和等離子蝕刻相同的原理，區(qū)別在于反應氣體的類型和等離子體的激發(fā)方式。